This site is not complete. The work to converting the volumes of സര്‍വ്വവിജ്ഞാനകോശം is on progress. Please bear with us
Please contact webmastersiep@yahoo.com for any queries regarding this website.

Reading Problems? see Enabling Malayalam

ടാന്‍ടലം

സര്‍വ്വവിജ്ഞാനകോശം സംരംഭത്തില്‍ നിന്ന്

(തിരഞ്ഞെടുത്ത പതിപ്പുകള്‍ തമ്മിലുള്ള വ്യത്യാസം)
(ടാന്‍ടലം)
വരി 2: വരി 2:
Tantalum
Tantalum
-
ഒരു രാസമൂലകം. സിം. Ta, അണ്വങ്കം: 73, അ.ഭാ. 180.948. സ്വീഡിഷ് രസതന്ത്രജ്ഞനായ ആന്‍ഡര്‍സ്. ജി. എക്ബര്‍ഗ് ആണ് ഈ മൂലകം കണ്ടുപിടിച്ചത് (1802). ആവര്‍ത്തനപ്പട്ടികയില്‍ ഗ്രൂപ്പ് ഢആ യില്‍ ഉള്‍പ്പെടുത്തിയിട്ടുള്ള ഈ മൂലകം 5റ ശ്രേണിയില്‍പ്പെടുന്ന ഒരു സംക്രമണ (Transition) മൂലകമാണ്. 5d<sup>3</sup> 6s<sup>2</sup> എന്ന ഇലക്ട്രോണ്‍ വിന്യാസംമൂലം +5 സംയോജകതയാണ് സാധാരണ പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കുന്നത്. +4, +3, +2 എന്നീ സംയോജകതകളും പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കാറുണ്ട്. ഭൌമോപരിതലത്തിലെ ആഗ്നേയശിലകളുടെ 0.00021 ശ.മാ. ടാന്‍ടലം ആണ്. അയിരുകളില്‍, ടാന്‍ടലം നിയോബിയവുമായി ചേര്‍ന്നാണ് സ്ഥിതിചെയ്യുന്നത്. Nb +5 അയോണിനും, ചയ +5 അയോണിനും ഏതാണ്ട് ഒരേ വലുപ്പമാണെന്നതാണിതിനു കാരണം. ഉദാ: (Fe, Mn) (Ta Nb)<sub>2</sub> O<sub>6</sub>. നിയോബിയം പൂര്‍ണമായും നീക്കം ചെയ്ത് ശുദ്ധമായ ടാന്‍ടലം വേര്‍തിരിക്കുന്നത്, ദ്രാവക-ദ്രാവക നിഷ്കര്‍ഷണം, വൈദ്യുതവിശ്ലേഷണം തുടങ്ങി അനവധി പ്രവിധികളുള്‍പ്പെടുന്ന ഒരു സങ്കീര്‍ണ പ്രക്രിയയാണ്. ധൂളിരൂപത്തില്‍ ലഭിക്കുന്ന ലോഹം നിബിഡമായി അടുക്കി ചൂടാക്കി പിണ്ഡമാക്കുന്നു. വളരെ കട്ടിയുള്ള ഈ ലോഹം അടിച്ചു പരത്തി തകിടുകളാക്കാന്‍ കഴിയും. ടാന്‍ടലത്തിന്റെ ഉരുകല്‍ നില (2996&deg;c)യും, തിളനില (6100&deg;c)യും വളരെ ഉയര്‍ന്നതാണ്. 150&deg;c-ല്‍ താഴെ നിഷ്ക്രിയമായ ഈ ലോഹം ഉയര്‍ന്ന താപനിലകളില്‍ രാസപ്രതിക്രിയാക്ഷമത പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കാറുണ്ട്. ഉയര്‍ന്ന താപനിലകളില്‍ ഓക്സിജനും, ഹാലജനുകളുമായി പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിച്ച് +5 ഓക്സൈഡുകളും ഹാലൈഡുകളും രൂപീകരിക്കുന്നു. ഉയര്‍ന്ന ഊഷ്മാവുകളില്‍ ഹൈഡ്രജന്‍, നൈട്രജന്‍, ഫോസ്ഫറസ്, അസ്റ്റാറ്റിന്‍, ആന്റിമണി, സിലിക്കോണ്‍, കാര്‍ബണ്‍, ബോറോണ്‍ എന്നിവയുമായി ചേര്‍ന്ന് സംയുക്തങ്ങള്‍ ഉണ്ടാക്കുന്നു. ടാന്‍ടലം അനവധി അലോയികളും രൂപീകരിക്കാറുണ്ട്. ടിന്നും കോബാള്‍ട്ടുമായി Ta<sub>3</sub>M, കോബാള്‍ട്ടുമായി Ta<sub>2</sub>, നിക്കലുമായി TaM, ജര്‍മേനിയം, ക്രോമിയം, മാന്‍ഗനീസ്, അയണ്‍ എന്നിവയുമായി Ta M<sub>2</sub>, അലുമിനിയം, ഇറിഡിയം, നിക്കല്‍, റോഡിയം എന്നിവയുമായി Ta M<sub>3</sub> എന്നിങ്ങനെയാണ് അലോയികള്‍ ഉണ്ടാവുന്നത്.
+
ഒരു രാസമൂലകം. സിം. Ta, അണ്വങ്കം: 73, അ.ഭാ. 180.948. സ്വീഡിഷ് രസതന്ത്രജ്ഞനായ ആന്‍ഡര്‍സ്. ജി. എക്ബര്‍ഗ് ആണ് ഈ മൂലകം കണ്ടുപിടിച്ചത് (1802). ആവര്‍ത്തനപ്പട്ടികയില്‍ ഗ്രൂപ്പ് ഢആ യില്‍ ഉള്‍പ്പെടുത്തിയിട്ടുള്ള ഈ മൂലകം 5d ശ്രേണിയില്‍പ്പെടുന്ന ഒരു സംക്രമണ (Transition) മൂലകമാണ്. 5d<sup>3</sup> 6s<sup>2</sup> എന്ന ഇലക്ട്രോണ്‍ വിന്യാസംമൂലം +5 സംയോജകതയാണ് സാധാരണ പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കുന്നത്. +4, +3, +2 എന്നീ സംയോജകതകളും പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കാറുണ്ട്. ഭൌമോപരിതലത്തിലെ ആഗ്നേയശിലകളുടെ 0.00021 ശ.മാ. ടാന്‍ടലം ആണ്. അയിരുകളില്‍, ടാന്‍ടലം നിയോബിയവുമായി ചേര്‍ന്നാണ് സ്ഥിതിചെയ്യുന്നത്. Nb +5 അയോണിനും, ചയ +5 അയോണിനും ഏതാണ്ട് ഒരേ വലുപ്പമാണെന്നതാണിതിനു കാരണം. ഉദാ: (Fe, Mn) (Ta Nb)<sub>2</sub> O<sub>6</sub>. നിയോബിയം പൂര്‍ണമായും നീക്കം ചെയ്ത് ശുദ്ധമായ ടാന്‍ടലം വേര്‍തിരിക്കുന്നത്, ദ്രാവക-ദ്രാവക നിഷ്കര്‍ഷണം, വൈദ്യുതവിശ്ലേഷണം തുടങ്ങി അനവധി പ്രവിധികളുള്‍പ്പെടുന്ന ഒരു സങ്കീര്‍ണ പ്രക്രിയയാണ്. ധൂളിരൂപത്തില്‍ ലഭിക്കുന്ന ലോഹം നിബിഡമായി അടുക്കി ചൂടാക്കി പിണ്ഡമാക്കുന്നു. വളരെ കട്ടിയുള്ള ഈ ലോഹം അടിച്ചു പരത്തി തകിടുകളാക്കാന്‍ കഴിയും. ടാന്‍ടലത്തിന്റെ ഉരുകല്‍ നില (2996&deg;c)യും, തിളനില (6100&deg;c)യും വളരെ ഉയര്‍ന്നതാണ്. 150&deg;c-ല്‍ താഴെ നിഷ്ക്രിയമായ ഈ ലോഹം ഉയര്‍ന്ന താപനിലകളില്‍ രാസപ്രതിക്രിയാക്ഷമത പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കാറുണ്ട്. ഉയര്‍ന്ന താപനിലകളില്‍ ഓക്സിജനും, ഹാലജനുകളുമായി പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിച്ച് +5 ഓക്സൈഡുകളും ഹാലൈഡുകളും രൂപീകരിക്കുന്നു. ഉയര്‍ന്ന ഊഷ്മാവുകളില്‍ ഹൈഡ്രജന്‍, നൈട്രജന്‍, ഫോസ്ഫറസ്, അസ്റ്റാറ്റിന്‍, ആന്റിമണി, സിലിക്കോണ്‍, കാര്‍ബണ്‍, ബോറോണ്‍ എന്നിവയുമായി ചേര്‍ന്ന് സംയുക്തങ്ങള്‍ ഉണ്ടാക്കുന്നു. ടാന്‍ടലം അനവധി അലോയികളും രൂപീകരിക്കാറുണ്ട്. ടിന്നും കോബാള്‍ട്ടുമായി Ta<sub>3</sub>M, കോബാള്‍ട്ടുമായി Ta<sub>2</sub>, നിക്കലുമായി TaM, ജര്‍മേനിയം, ക്രോമിയം, മാന്‍ഗനീസ്, അയണ്‍ എന്നിവയുമായി Ta M<sub>2</sub>, അലുമിനിയം, ഇറിഡിയം, നിക്കല്‍, റോഡിയം എന്നിവയുമായി Ta M<sub>3</sub> എന്നിങ്ങനെയാണ് അലോയികള്‍ ഉണ്ടാവുന്നത്.
ടാന്‍ടലം വായുവുമായി സമ്പര്‍ക്കത്തിലാവുമ്പോള്‍ ടാന്‍ടലം ഓക്സൈഡിന്റെ കട്ടിയുള്ളതും അതാര്യവുമായ ഒരു ആവരണം രൂപീകൃതമാവുന്നതിനാല്‍ ലോഹം ദ്രവിക്കുന്നതു തടയുന്നു. ഗാഢ സള്‍ഫ്യൂറിക് അമ്ലം, ഹൈഡ്രോഫ്ളൂറിക് അമ്ലം, ഫ്ളൂറൈഡ് അയോണുകളടങ്ങുന്ന മറ്റ് അമ്ളങ്ങള്‍ എന്നിവ ഒഴികെ മറ്റെല്ലാ അമ്ളങ്ങള്‍ക്കുമെതിരെ ടാന്‍ടലം പ്രതിരോധക്ഷമത പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കുന്നുണ്ട്. കാഥോഡിക വൈദ്യുത വിശ്ളേഷണം വഴി സാധാരണ ഊഷ്മാവില്‍ തന്നെ ഹൈഡ്രജന്‍ അവശോഷണം ചെയ്യുന്നു. ഹൈഡ്രജന്‍ അന്തരീക്ഷത്തില്‍ 350&deg;c-ല്‍ ടാന്‍ടലം ഹൈഡ്രൈഡ് ഉണ്ടാവുന്നു. താഴ്ന്ന ഉരുകല്‍ നിലയുള്ള ദ്രവലോഹങ്ങളുമായി ഓക്സിജന്റെയും നൈട്രജന്റെയും അഭാവത്തില്‍ പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കാറില്ല. 1000&deg;c-ല്‍ താഴെ ദ്രവബിസ്മത്ത്, ലെഡ്, ലിഥിയം എന്നിവയുമായി പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കുന്നില്ല. 1200&deg;c-ല്‍ വെള്ളിയും കാല്‍സിയവുമായി ചെറിയതോതില്‍ രാസപ്രവര്‍ത്തനം നടക്കുന്നു. ദ്രവഗാലിയവുമായി 650&deg;c-ന് മുകളില്‍ പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കുന്നു.
ടാന്‍ടലം വായുവുമായി സമ്പര്‍ക്കത്തിലാവുമ്പോള്‍ ടാന്‍ടലം ഓക്സൈഡിന്റെ കട്ടിയുള്ളതും അതാര്യവുമായ ഒരു ആവരണം രൂപീകൃതമാവുന്നതിനാല്‍ ലോഹം ദ്രവിക്കുന്നതു തടയുന്നു. ഗാഢ സള്‍ഫ്യൂറിക് അമ്ലം, ഹൈഡ്രോഫ്ളൂറിക് അമ്ലം, ഫ്ളൂറൈഡ് അയോണുകളടങ്ങുന്ന മറ്റ് അമ്ളങ്ങള്‍ എന്നിവ ഒഴികെ മറ്റെല്ലാ അമ്ളങ്ങള്‍ക്കുമെതിരെ ടാന്‍ടലം പ്രതിരോധക്ഷമത പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കുന്നുണ്ട്. കാഥോഡിക വൈദ്യുത വിശ്ളേഷണം വഴി സാധാരണ ഊഷ്മാവില്‍ തന്നെ ഹൈഡ്രജന്‍ അവശോഷണം ചെയ്യുന്നു. ഹൈഡ്രജന്‍ അന്തരീക്ഷത്തില്‍ 350&deg;c-ല്‍ ടാന്‍ടലം ഹൈഡ്രൈഡ് ഉണ്ടാവുന്നു. താഴ്ന്ന ഉരുകല്‍ നിലയുള്ള ദ്രവലോഹങ്ങളുമായി ഓക്സിജന്റെയും നൈട്രജന്റെയും അഭാവത്തില്‍ പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കാറില്ല. 1000&deg;c-ല്‍ താഴെ ദ്രവബിസ്മത്ത്, ലെഡ്, ലിഥിയം എന്നിവയുമായി പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കുന്നില്ല. 1200&deg;c-ല്‍ വെള്ളിയും കാല്‍സിയവുമായി ചെറിയതോതില്‍ രാസപ്രവര്‍ത്തനം നടക്കുന്നു. ദ്രവഗാലിയവുമായി 650&deg;c-ന് മുകളില്‍ പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കുന്നു.
ടാന്‍ടലം ലോഹത്തിന് പലവിധ ഉപയോഗങ്ങള്‍ കണ്ടെത്തിയിട്ടുണ്ട്. റേഡിയോ, പുകമാപിനികള്‍, ഹൃദയപേസ്മേക്കറുകള്‍ തുടങ്ങിയ ഇലക്ട്രോണിക് ഉപകരണങ്ങളില്‍ ടാന്‍ടലം കൊണ്ട് നിര്‍മിക്കുന്ന കപ്പാസിറ്ററുകളാണ് ഉപയോഗിച്ചു വരുന്നത്. ടാന്‍ടലം ഓക്സൈഡിന്റെ വളരെ നേര്‍ത്ത പാളി കപ്പാസിറ്ററുകളില്‍ വിദ്യുത്രോധകങ്ങളായി വര്‍ത്തിക്കുന്നു. രാസപ്രക്രിയകള്‍ക്കുള്ള അമ്ലരോധ ഉപകരണങ്ങളുടെ നിര്‍മാണത്തിന് ടാന്‍ടലം ആണ് ഉപയോഗിച്ചു വരുന്നത്. ടാന്‍ടലം-ലിഥിയം ഓക്സൈഡ് (LiTa O<sub>3</sub>) ലേസര്‍ രശ്മികളുടെ മോഡുലനത്തിന് ഉപയോഗിക്കുന്നു. ടാന്‍ടലം കാര്‍ബൈഡാകട്ടെ കട്ടിയുള്ള ലോഹങ്ങളും മറ്റും മുറിക്കാനുള്ള ഉപകരണങ്ങളുടെ നിര്‍മാണത്തിനാണ് ഉപയോഗിച്ചുവരുന്നത്. ശരീരദ്രാവകങ്ങളുമായും ശരീര കലകളുമായും പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കാത്തതിനാല്‍ ശസ്ത്രക്രിയ കഴിഞ്ഞുള്ള മുറിവുകള്‍ തയ്ക്കുന്നതിന് ടാന്‍ടലം ഉപയോഗിക്കുന്നു. ഒടിഞ്ഞ എല്ലുകള്‍ ചേര്‍ത്തുവയ്ക്കാനായി ടാന്‍ടലം കമ്പികളും സ്ക്രൂകളും മറ്റും വിപുലമായതോതില്‍ ഉപയോഗിക്കാറുണ്ട്. തലയോട്ടിയിലും മറ്റു  ശരീരഭാഗങ്ങളിലും ഉപയോഗപ്പെടുത്തുന്ന ടാന്‍ടലം വലുതായി തിരസ്കരിക്കപ്പെടുന്നില്ല.
ടാന്‍ടലം ലോഹത്തിന് പലവിധ ഉപയോഗങ്ങള്‍ കണ്ടെത്തിയിട്ടുണ്ട്. റേഡിയോ, പുകമാപിനികള്‍, ഹൃദയപേസ്മേക്കറുകള്‍ തുടങ്ങിയ ഇലക്ട്രോണിക് ഉപകരണങ്ങളില്‍ ടാന്‍ടലം കൊണ്ട് നിര്‍മിക്കുന്ന കപ്പാസിറ്ററുകളാണ് ഉപയോഗിച്ചു വരുന്നത്. ടാന്‍ടലം ഓക്സൈഡിന്റെ വളരെ നേര്‍ത്ത പാളി കപ്പാസിറ്ററുകളില്‍ വിദ്യുത്രോധകങ്ങളായി വര്‍ത്തിക്കുന്നു. രാസപ്രക്രിയകള്‍ക്കുള്ള അമ്ലരോധ ഉപകരണങ്ങളുടെ നിര്‍മാണത്തിന് ടാന്‍ടലം ആണ് ഉപയോഗിച്ചു വരുന്നത്. ടാന്‍ടലം-ലിഥിയം ഓക്സൈഡ് (LiTa O<sub>3</sub>) ലേസര്‍ രശ്മികളുടെ മോഡുലനത്തിന് ഉപയോഗിക്കുന്നു. ടാന്‍ടലം കാര്‍ബൈഡാകട്ടെ കട്ടിയുള്ള ലോഹങ്ങളും മറ്റും മുറിക്കാനുള്ള ഉപകരണങ്ങളുടെ നിര്‍മാണത്തിനാണ് ഉപയോഗിച്ചുവരുന്നത്. ശരീരദ്രാവകങ്ങളുമായും ശരീര കലകളുമായും പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കാത്തതിനാല്‍ ശസ്ത്രക്രിയ കഴിഞ്ഞുള്ള മുറിവുകള്‍ തയ്ക്കുന്നതിന് ടാന്‍ടലം ഉപയോഗിക്കുന്നു. ഒടിഞ്ഞ എല്ലുകള്‍ ചേര്‍ത്തുവയ്ക്കാനായി ടാന്‍ടലം കമ്പികളും സ്ക്രൂകളും മറ്റും വിപുലമായതോതില്‍ ഉപയോഗിക്കാറുണ്ട്. തലയോട്ടിയിലും മറ്റു  ശരീരഭാഗങ്ങളിലും ഉപയോഗപ്പെടുത്തുന്ന ടാന്‍ടലം വലുതായി തിരസ്കരിക്കപ്പെടുന്നില്ല.

09:13, 20 ഒക്ടോബര്‍ 2008-നു നിലവിലുണ്ടായിരുന്ന രൂപം

ടാന്‍ടലം

Tantalum

ഒരു രാസമൂലകം. സിം. Ta, അണ്വങ്കം: 73, അ.ഭാ. 180.948. സ്വീഡിഷ് രസതന്ത്രജ്ഞനായ ആന്‍ഡര്‍സ്. ജി. എക്ബര്‍ഗ് ആണ് ഈ മൂലകം കണ്ടുപിടിച്ചത് (1802). ആവര്‍ത്തനപ്പട്ടികയില്‍ ഗ്രൂപ്പ് ഢആ യില്‍ ഉള്‍പ്പെടുത്തിയിട്ടുള്ള ഈ മൂലകം 5d ശ്രേണിയില്‍പ്പെടുന്ന ഒരു സംക്രമണ (Transition) മൂലകമാണ്. 5d3 6s2 എന്ന ഇലക്ട്രോണ്‍ വിന്യാസംമൂലം +5 സംയോജകതയാണ് സാധാരണ പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കുന്നത്. +4, +3, +2 എന്നീ സംയോജകതകളും പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കാറുണ്ട്. ഭൌമോപരിതലത്തിലെ ആഗ്നേയശിലകളുടെ 0.00021 ശ.മാ. ടാന്‍ടലം ആണ്. അയിരുകളില്‍, ടാന്‍ടലം നിയോബിയവുമായി ചേര്‍ന്നാണ് സ്ഥിതിചെയ്യുന്നത്. Nb +5 അയോണിനും, ചയ +5 അയോണിനും ഏതാണ്ട് ഒരേ വലുപ്പമാണെന്നതാണിതിനു കാരണം. ഉദാ: (Fe, Mn) (Ta Nb)2 O6. നിയോബിയം പൂര്‍ണമായും നീക്കം ചെയ്ത് ശുദ്ധമായ ടാന്‍ടലം വേര്‍തിരിക്കുന്നത്, ദ്രാവക-ദ്രാവക നിഷ്കര്‍ഷണം, വൈദ്യുതവിശ്ലേഷണം തുടങ്ങി അനവധി പ്രവിധികളുള്‍പ്പെടുന്ന ഒരു സങ്കീര്‍ണ പ്രക്രിയയാണ്. ധൂളിരൂപത്തില്‍ ലഭിക്കുന്ന ലോഹം നിബിഡമായി അടുക്കി ചൂടാക്കി പിണ്ഡമാക്കുന്നു. വളരെ കട്ടിയുള്ള ഈ ലോഹം അടിച്ചു പരത്തി തകിടുകളാക്കാന്‍ കഴിയും. ടാന്‍ടലത്തിന്റെ ഉരുകല്‍ നില (2996°c)യും, തിളനില (6100°c)യും വളരെ ഉയര്‍ന്നതാണ്. 150°c-ല്‍ താഴെ നിഷ്ക്രിയമായ ഈ ലോഹം ഉയര്‍ന്ന താപനിലകളില്‍ രാസപ്രതിക്രിയാക്ഷമത പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കാറുണ്ട്. ഉയര്‍ന്ന താപനിലകളില്‍ ഓക്സിജനും, ഹാലജനുകളുമായി പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിച്ച് +5 ഓക്സൈഡുകളും ഹാലൈഡുകളും രൂപീകരിക്കുന്നു. ഉയര്‍ന്ന ഊഷ്മാവുകളില്‍ ഹൈഡ്രജന്‍, നൈട്രജന്‍, ഫോസ്ഫറസ്, അസ്റ്റാറ്റിന്‍, ആന്റിമണി, സിലിക്കോണ്‍, കാര്‍ബണ്‍, ബോറോണ്‍ എന്നിവയുമായി ചേര്‍ന്ന് സംയുക്തങ്ങള്‍ ഉണ്ടാക്കുന്നു. ടാന്‍ടലം അനവധി അലോയികളും രൂപീകരിക്കാറുണ്ട്. ടിന്നും കോബാള്‍ട്ടുമായി Ta3M, കോബാള്‍ട്ടുമായി Ta2, നിക്കലുമായി TaM, ജര്‍മേനിയം, ക്രോമിയം, മാന്‍ഗനീസ്, അയണ്‍ എന്നിവയുമായി Ta M2, അലുമിനിയം, ഇറിഡിയം, നിക്കല്‍, റോഡിയം എന്നിവയുമായി Ta M3 എന്നിങ്ങനെയാണ് അലോയികള്‍ ഉണ്ടാവുന്നത്.

ടാന്‍ടലം വായുവുമായി സമ്പര്‍ക്കത്തിലാവുമ്പോള്‍ ടാന്‍ടലം ഓക്സൈഡിന്റെ കട്ടിയുള്ളതും അതാര്യവുമായ ഒരു ആവരണം രൂപീകൃതമാവുന്നതിനാല്‍ ലോഹം ദ്രവിക്കുന്നതു തടയുന്നു. ഗാഢ സള്‍ഫ്യൂറിക് അമ്ലം, ഹൈഡ്രോഫ്ളൂറിക് അമ്ലം, ഫ്ളൂറൈഡ് അയോണുകളടങ്ങുന്ന മറ്റ് അമ്ളങ്ങള്‍ എന്നിവ ഒഴികെ മറ്റെല്ലാ അമ്ളങ്ങള്‍ക്കുമെതിരെ ടാന്‍ടലം പ്രതിരോധക്ഷമത പ്രദര്‍ശിപ്പിക്കുന്നുണ്ട്. കാഥോഡിക വൈദ്യുത വിശ്ളേഷണം വഴി സാധാരണ ഊഷ്മാവില്‍ തന്നെ ഹൈഡ്രജന്‍ അവശോഷണം ചെയ്യുന്നു. ഹൈഡ്രജന്‍ അന്തരീക്ഷത്തില്‍ 350°c-ല്‍ ടാന്‍ടലം ഹൈഡ്രൈഡ് ഉണ്ടാവുന്നു. താഴ്ന്ന ഉരുകല്‍ നിലയുള്ള ദ്രവലോഹങ്ങളുമായി ഓക്സിജന്റെയും നൈട്രജന്റെയും അഭാവത്തില്‍ പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കാറില്ല. 1000°c-ല്‍ താഴെ ദ്രവബിസ്മത്ത്, ലെഡ്, ലിഥിയം എന്നിവയുമായി പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കുന്നില്ല. 1200°c-ല്‍ വെള്ളിയും കാല്‍സിയവുമായി ചെറിയതോതില്‍ രാസപ്രവര്‍ത്തനം നടക്കുന്നു. ദ്രവഗാലിയവുമായി 650°c-ന് മുകളില്‍ പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കുന്നു.

ടാന്‍ടലം ലോഹത്തിന് പലവിധ ഉപയോഗങ്ങള്‍ കണ്ടെത്തിയിട്ടുണ്ട്. റേഡിയോ, പുകമാപിനികള്‍, ഹൃദയപേസ്മേക്കറുകള്‍ തുടങ്ങിയ ഇലക്ട്രോണിക് ഉപകരണങ്ങളില്‍ ടാന്‍ടലം കൊണ്ട് നിര്‍മിക്കുന്ന കപ്പാസിറ്ററുകളാണ് ഉപയോഗിച്ചു വരുന്നത്. ടാന്‍ടലം ഓക്സൈഡിന്റെ വളരെ നേര്‍ത്ത പാളി കപ്പാസിറ്ററുകളില്‍ വിദ്യുത്രോധകങ്ങളായി വര്‍ത്തിക്കുന്നു. രാസപ്രക്രിയകള്‍ക്കുള്ള അമ്ലരോധ ഉപകരണങ്ങളുടെ നിര്‍മാണത്തിന് ടാന്‍ടലം ആണ് ഉപയോഗിച്ചു വരുന്നത്. ടാന്‍ടലം-ലിഥിയം ഓക്സൈഡ് (LiTa O3) ലേസര്‍ രശ്മികളുടെ മോഡുലനത്തിന് ഉപയോഗിക്കുന്നു. ടാന്‍ടലം കാര്‍ബൈഡാകട്ടെ കട്ടിയുള്ള ലോഹങ്ങളും മറ്റും മുറിക്കാനുള്ള ഉപകരണങ്ങളുടെ നിര്‍മാണത്തിനാണ് ഉപയോഗിച്ചുവരുന്നത്. ശരീരദ്രാവകങ്ങളുമായും ശരീര കലകളുമായും പ്രതിപ്രവര്‍ത്തിക്കാത്തതിനാല്‍ ശസ്ത്രക്രിയ കഴിഞ്ഞുള്ള മുറിവുകള്‍ തയ്ക്കുന്നതിന് ടാന്‍ടലം ഉപയോഗിക്കുന്നു. ഒടിഞ്ഞ എല്ലുകള്‍ ചേര്‍ത്തുവയ്ക്കാനായി ടാന്‍ടലം കമ്പികളും സ്ക്രൂകളും മറ്റും വിപുലമായതോതില്‍ ഉപയോഗിക്കാറുണ്ട്. തലയോട്ടിയിലും മറ്റു ശരീരഭാഗങ്ങളിലും ഉപയോഗപ്പെടുത്തുന്ന ടാന്‍ടലം വലുതായി തിരസ്കരിക്കപ്പെടുന്നില്ല.

താളിന്റെ അനുബന്ധങ്ങള്‍
സ്വകാര്യതാളുകള്‍